[发明专利]杂二环醇对映体的立体选择性制备方法无效
申请号: | 97101035.8 | 申请日: | 1997-01-22 |
公开(公告)号: | CN1139586C | 公开(公告)日: | 2004-02-25 |
发明(设计)人: | N·布泽尔;K·M·申克;C·G·克鲁斯;B·沙迪德 | 申请(专利权)人: | 杜菲尔国际开发有限公司 |
主分类号: | C07D319/20 | 分类号: | C07D319/20;C07D327/06;C07D265/36;C07C205/06;C07C201/14;C07C317/46;C07C317/48 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李勇 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及式(I)所示杂二环醇对映体的立体选择性制备方法,其特征在于,(i)使式(II)所示化合物与式(III)所示化合物反应,(ii)将形成的化合物去保护/关环,(iii)任意性地将关环反应产物的羟基去保护。本发明还涉及该方法中的对映体纯的中间体、它们的制备方法和起始化合物的制备方法。式中各符号的定义同说明书。∴ | ||
搜索关键词: | 杂二环醇 立体 选择性 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种立体选择性制备杂二环醇对映体的方法,其特征在于,下面通式所示的纯净的对映体
其中,X为O、S、NH或N-(C1-C4)烷基;Y1和Y2各自独立的为H或选自卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)卤代烷基、甲酰基、硝基和氰基的取代基;C*原子具有R或S构型;是以下面通式所示的化合物为原料
其中,X、Y1和Y2与前面的含义相同;R1为H或适当的保护基团;R2为H;或其中R1和R2共同构成可被(C1-C3)烷基单或双取代的亚甲基桥;通过下列连续的反应步骤而制得:(i)与下面通式所示的化合物进行反应
其中,Z为羟基或适当的离去基团;R3为羟基保护基团;R4为卤素原子;或其中R3和R4共同构成一共价键或式-C(R11)2-O-所示的二价基团,其中R11为直链或支链(C1-C4)烷基;C*原子具有R或S构型;得到下面通式所示的化合物
其中,X、Y1、Y2、R3和R4与前面的含义相同;和R2为H或保护基团;(ii)将得到的化合物进行去保护/关环反应;(iii)任意性地,将关环产物进行羟基去保护反应。
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