[发明专利]表面起伏式绕射光学元件及其制作方法

摘要

一种表面起伏式绕射光学元件及其制作方法包括下列步骤（１）利用一种渐进式（或多层次）光折射率系数分布镀膜技术，在基板上镀上一层渐进光折射率系数分布膜，使光束经过时产生光程差，再以光阻涂布，然后以光罩制版或以激光直接干涉的方式，直接在光阻上拍摄出所需之绕射条纹；（２）经显影、定影而将所需之绕射条纹形成于光阻上；（３）利用前述光阻做为光罩，对渐进式（或多层次）光折射率系数分布膜进行蚀刻，借以在前述的分布膜上形成绕射条纹，最后去除光阻。

主权项

1.一种表面起伏式绕射光学元件的制作方法，包括下列步骤：(1)利用一种渐进式光折射率系数分布镀膜技术，在基板上镀上一层渐进光折射率系数分布膜，使光束经过时可产生光程差，再以光刻胶涂布镀有渐进式光折射率系数分布膜的基板，渐进式光折射率系数分布规格可由绕射条纹线宽及所需效率等参数，再经精确的耦合波理论计算出所须的光折射率系数分布，然后以激光直接干涉的方式，直接在光刻胶上拍摄出所需之绕射条纹；(2)经由显影、定影而将所需之绕射条纹形成于光刻胶上；(3)利用前述光刻胶做为光掩模，并以半导体工艺中常用的蚀刻技术，对渐进式光折射率系数分布膜进行蚀刻，借以在前述渐进式光折射率系数分布膜上形成绕射条纹，最后将光刻胶去除。