[发明专利]半色调模版及其制造方法和设备无效
| 申请号： | 97104203.9 | 申请日： | 1997-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1115246C | 公开（公告）日： | 2003-07-23 |
| 发明（设计）人： | 海因茨·蒙格纳斯特 | 申请（专利权）人： | 库夫施泰因模板技术股份公司 |
| 主分类号： | B41C1/14 | 分类号： | B41C1/14;B41N1/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 邵伟 |
| 地址： | 奥地利库*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在半色调模版(1)的制造过程中，为了形成模版图案(3)，在基本模版元件的预定模版图案区域(2)内雕刻一模版图案孔结构。另外，在基本模版元件上雕刻多个均匀一致的基准孔结构(4)，每一基准孔结构(4)的渗透度均不同且位于模版图案区域(2)的外侧。在后续的印刷过程中，这些基准孔结构用于生成印刷图案，且其中一部分用于评估模版图案印刷的质量或色彩真实度。 | ||
| 搜索关键词： | 色调 模版 及其 制造 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造半色调模版(1)的方法，其中，在一基本模版元件(1a，1b；1c，1d)的预定模版图案区域(2)内雕刻一模版图案孔结构，以形成一模版图案(3)，其特征在于，在基本模版元件(1a，1b；1c，1d)中雕刻多个均匀一致的基准孔结构(4)，每一基准孔结构(4)的渗透度均不同并位于模版图案区域(2)的外侧，将每一基准孔结构(4)的渗透度与各期望渗透度进行比较，如果存在偏差，便重新雕刻均匀一致的基准孔结构(4)。
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