[发明专利]高通量中性原子束流的制备技术无效

专利信息
申请号: 97105079.1 申请日: 1997-02-04
公开(公告)号: CN1112837C 公开(公告)日: 2003-06-25
发明(设计)人: 沈嘉年;周龙江;何砚发;李铁藩;李美栓 申请(专利权)人: 中国科学院金属腐蚀与防护研究所
主分类号: H05H3/02 分类号: H05H3/02
代理公司: 沈阳科苑专利代理有限责任公司 代理人: 张晨
地址: 110015 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高通量中性原子束流的制备技术,适用于能够产生分子气体的原子,首先将分子气体放电形成等离子体,再由强磁场约束成高密度等离子体束,要求密度大于1012离子/cm3,其特征在于:以一带负偏压的高原子序数金属板作为中性化靶,金属板的原子序较要形成原子束的原子序数大30以上,所施加的负偏压应使等离子体束的入射动能在5-60ev范围内,由中性靶上反射出来的即所需中性原子束。本发明获得高通量、高纯度的中性原子束流。
搜索关键词: 通量 中性 原子 制备 技术
【主权项】:
1.一种高通量中性原子束流的制备方法,适用于能够产生分子气体的原子,首先将分子气体放电形成等离子体,再由强磁场约束成高密度等离子体束,要求密度大于1012离子/cm3,其特征在于:以一带负偏压的金属板作为中性化靶,金属板的原子序数较要形成原子束的原子序数大30以上,所施加的负偏压应使等离子体束的入射动能在5-60ev范围内,由中性靶上反射出来的即所需中性原子束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属腐蚀与防护研究所,未经中国科学院金属腐蚀与防护研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97105079.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top