[发明专利]高通量中性原子束流的制备技术无效
申请号: | 97105079.1 | 申请日: | 1997-02-04 |
公开(公告)号: | CN1112837C | 公开(公告)日: | 2003-06-25 |
发明(设计)人: | 沈嘉年;周龙江;何砚发;李铁藩;李美栓 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属腐蚀与防护研究所 |
主分类号: | H05H3/02 | 分类号: | H05H3/02 |
代理公司: | 沈阳科苑专利代理有限责任公司 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种高通量中性原子束流的制备技术,适用于能够产生分子气体的原子,首先将分子气体放电形成等离子体,再由强磁场约束成高密度等离子体束,要求密度大于1012离子/cm3,其特征在于:以一带负偏压的高原子序数金属板作为中性化靶,金属板的原子序较要形成原子束的原子序数大30以上,所施加的负偏压应使等离子体束的入射动能在5-60ev范围内,由中性靶上反射出来的即所需中性原子束。本发明获得高通量、高纯度的中性原子束流。 | ||
搜索关键词: | 通量 中性 原子 制备 技术 | ||
【主权项】:
1.一种高通量中性原子束流的制备方法,适用于能够产生分子气体的原子,首先将分子气体放电形成等离子体,再由强磁场约束成高密度等离子体束,要求密度大于1012离子/cm3,其特征在于:以一带负偏压的金属板作为中性化靶,金属板的原子序数较要形成原子束的原子序数大30以上,所施加的负偏压应使等离子体束的入射动能在5-60ev范围内,由中性靶上反射出来的即所需中性原子束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属腐蚀与防护研究所,未经中国科学院金属腐蚀与防护研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97105079.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。