[发明专利]磁头装置及使用该磁头装置的磁记录装置无效
申请号: | 97110572.3 | 申请日: | 1997-04-23 |
公开(公告)号: | CN1129891C | 公开(公告)日: | 2003-12-03 |
发明(设计)人: | 夏井昭长;能智纪台 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B5/23 | 分类号: | G11B5/23 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 姜郛厚,叶恺东 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种形成有具有高饱和磁通密度的金属磁膜,即使将其设置在强腐蚀性的环境下,也具有高可靠性的磁头装置和磁记录装置。作为金属磁膜2,使用FeAlSi膜,并用喷溅法形成,其厚度可为大约5μm。然后用Al作为支持基台5。支持基台5可以用冲压成型法形成,其厚度可为大约0.75mm。而且磁头可用紫外线硬化型粘接剂粘接固定在支持基台上。 | ||
搜索关键词: | 磁头 装置 使用 记录 | ||
【主权项】:
1.一种在至少一个磁芯半体上,设置有以Fe为主体的金属磁膜的、并且将一对磁芯半体结合为一体的金属化间隙型磁头,其特征在于,所述磁头的支持基台的至少表面的任一部分包含有具有比所述金属磁膜更低的标准电极电位的材料,而且,所述磁芯和支持基台之间具有电联接。
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