[发明专利]真空镀膜设备的基片支架无效
| 申请号： | 97111504.4 | 申请日： | 1997-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1124363C | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | Ｒ·苏特 | 申请（专利权）人： | 萨蒂斯真空工业销售股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛,蔡民军 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于在光学基片表面上蒸镀镀膜的真空镀膜设备的基片支架，光学基片可被夹紧在多个这样的支架上，支架本身装在一个可抽成真空的容器内在可更换的蒸发源上方，其中，在基片支架的径向延伸段中至少设有两个各用于一个基片的安装区，在这些安装区之间总有一个将基片支架分成段的活动关节或铰链，带着基片的支架段可围绕着铰链彼此相对地向两侧自由摆动一个预定的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 支架 | ||
【主权项】：
1.真空镀膜设备的基片支架，该设备包括：一容纳待镀膜的基片的支架；一蒸发源，其与该支架竖直隔开并将蒸汽流散发到安装在该支架上的基片上；其改进在于所述支架包括：(a)至少两个径向相邻的段，各自容纳至少一个待镀膜的基片；(b)一连接所述相邻的段的铰链，以允许所述段彼此相对地向两侧方向摆动至一预定的角度，从而使所述基片支架的所述段能相对于所述蒸发源成一角度。
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