[发明专利]等离子体渗碳处理金属工件的装置及其方法无效
| 申请号： | 97115002.8 | 申请日： | 1997-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN1177651A | 公开（公告）日： | 1998-04-01 |
| 发明（设计）人： | 权光宇 | 申请（专利权）人： | 三星重工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 顾红霞 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种等离子体渗碳处理金属工件的装置和方法,它的制造成本低,便于保养和维修,能提高渗碳处理的金属工件的产率和热处理质量。本发明的装置包括产生等离子体对工件进行渗碳处理的渗碳室。渗碳室包括装工件的装料台和开关渗碳室的盖。装料台和盖做成一体。对工件进行淬火处理的冷却室安装在渗碳室附近。一输送装置将工件从渗碳室输送到冷却室,工件在常温下从渗碳室中退出来。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 渗碳 处理 金属 工件 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于给金属工件等离子体渗碳的装置，它包含：通过产生等离子体对金属工件进行渗碳处理的渗碳室；对用等离子体渗碳处理的金属工件进行淬火的冷却室；用于将金属工件从所述渗碳室输送到所述冷却室的输送装置，其中，金属工件在常温下从所述渗碳室退出来。
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