[发明专利]印相处理机中的处理液状态的判断方法及印相处理机有效
| 申请号： | 97115492.9 | 申请日： | 1997-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN1102756C | 公开（公告）日： | 2003-03-05 |
| 发明（设计）人： | 茂木文雄 | 申请（专利权）人： | 富士胶片公司 |
| 主分类号： | G03B27/80 | 分类号： | G03B27/80;G03D13/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 姜郛厚,叶恺东 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种利用从光源(72)照射的光将图象曝光到感光材料(P1，P2)上，用处理液处理曝过光的上述感光材料(P1，P2)，同时具有根据作为调整修正曝光条件用的多个修正参数值的光源光量、感光材料特性、处理液状态中的至少一个，通过调整上述修正曝光条件用的多个修正参数值，来修正曝光条件的功能的印相处理机的处理液状态的判断方法及印相处理机，其特征在于包括以下步骤(a)存储上述多个修正参数值中的至少1个修正参数值的变化历史，(b)根据上述存储的至少1个修正参数值的变化历史，判断上述处理液状态是否良好。因此，曝光条件修正用的修正参数值的变化历史反映出上述处理液状态的变化特征。 | ||
| 搜索关键词： | 相处 中的 处理 液状 判断 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用从光源(72)照射的光将图象曝光到感光材料(P1，P2)上，用处理液处理曝过光的上述感光材料(P1，P2)，同时具有根据作为调整修正曝光条件用的多个修正参数值的：光源光量、感光材料特性、处理液状态中的至少一个，通过调整上述修正曝光条件用的多个修正参数值，来修正曝光条件的功能的印相处理机的处理液状态的判断方法，其特征在于：包括以下步骤：(a)存储上述多个修正参数值中的至少1个修正参数值的变化历史，(b)根据上述存储的至少1个修正参数值的变化历史，判断上述处理液状态是否良好。
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