[发明专利]半导体装置及其制造方法无效
申请号: | 97116176.3 | 申请日: | 1997-08-08 |
公开(公告)号: | CN1118874C | 公开(公告)日: | 2003-08-20 |
发明(设计)人: | 中谷康雄 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L27/108;H01L21/768;H01L21/8242 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯,叶恺东 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种电容器与晶体管的导电连接良好的半导体装置及其制造方法。作为电容器的下部电极的存储节点7a通过覆盖第1多晶硅膜7c上形成的开口部分13的第2多晶硅膜7d,与埋入于接触孔6内的多晶硅柱状导电体7b进行导电连接。再者,该多晶硅柱状导电体通过接触点6a与MOS晶体管T的源、漏区4a进行导电连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有电容器的半导体装置,其特征在于,备有:在半导体衬底的主表面上形成的导电层;在包含所述导电层的所述半导体衬底的主表面上形成的绝缘膜;为了露出所述导电层的表面而在所述绝缘膜上设置的接触孔中以不超过该接触孔的上端的方式埋入导电体而形成的柱状导电体部分;下部电极,包括第1导电体部分和第2导电体部分,第1导电体部分在包含所述接触孔上方的所述绝缘膜上的规定区域中形成,同时至少具有露出所述柱状导电体部分的上端表面的开口部分,第2导电体部分在所述开口部分内在该开口部分的侧面、所述绝缘膜的表面、所述柱状导电体部分的上端表面上形成,而且在所述第1导电体部分的上表面上形成,使所述柱状导电体部分与所述第1导电体部分进行导电连接;上部电极,包括第3导电体部分,第3导电体部分在所述第2导电体部分的表面上将电介质膜夹在中间而形成;第1导电体部分的平面形状实质上是矩形,开口部分比矩形的短边尺寸较大。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97116176.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在无线通信系统中跟踪通信信号的方法和装置
- 下一篇:具有致密外部流化床的锅炉
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的