[发明专利]含水层氧化和沉淀区或还原区形成装置无效

专利信息
申请号: 97117480.6 申请日: 1997-08-20
公开(公告)号: CN1208720A 公开(公告)日: 1999-02-24
发明(设计)人: 鲁道夫·马丁内尔 申请(专利权)人: 维尔梅托德公司
主分类号: C02F1/64 分类号: C02F1/64
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 刘志平
地址: 瑞典*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在含水层中形成氧化和沉淀区或还原区的装置,分布在一口或一口以上净化水抽水井周围许多灌注井之间,上述灌注井各有一透水外管。为了防止该装置被堵塞,在外管上端装一循环容器,从该容器有第1导管,在外管内,向下延伸,最后到达含水层上部高度,并装一压力入口装置,从而形成上喷射器,而第2导管,在其上端支撑一外部密封安装的球体,它可充气,与外管内表面密封接合,上述第2导管靠近上述球体上面,装一压力入口装置,从而形成第2喷射器。
搜索关键词: 含水层 氧化 沉淀 还原 形成 装置
【主权项】:
1.实施印刷出版物WO92/00918权利要求1所述方法的装置,即在含水层中形成一氧化和沉淀区或还原区,分布在一口或一口以上净化水抽水井周围许多灌注井之间,该区供地下水不需要的物质现场还原或沉淀之用,期望区在每对相邻灌注井之间断续形成,其方法(i)在形成氧化和沉淀区时,把氧,含氧气体或放氧物加入两口井水中;或在形成还原区时,把耗氧物加入两口井水中;(ii)从下向上,在其中一口井中抽水,同时从上向下,在另一口井中也抽水,从而在两口井之间的含水层中形成一循环回路,上述灌注井各有一外管,至少在其长度的一段地下水输送部分有孔透水,其特点在于:在外管(1)上端装一循环容器(2),从该容器一方面有第1导管(3)在外管(1)内向下延伸,最后到达含水层上部高度,并在其口部稍高之处装一压力入口装置(5),从而形成上喷射器,而另一方面有第2导管(4),其末端在管(1)有孔部分中部或中部下面,在导管下端支撑一外部密封安装的球体(7),它可充气,与外管(1)内表面密封接合,上述第2导管靠近上述球体上面装有一压力入口装置(6),从而形成第2喷射器,两个压力入口装置(5,6)和球体(7)都与一个或一个以上的相配压力源连接。
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