[发明专利]量子线的制造方法无效
| 申请号： | 97121208.2 | 申请日： | 1997-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1150631C | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | 乔纳森·韦斯特沃特;德哈拉姆·帕尔·高塞恩;中越美弥子;碓井节夫 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 制造量子线的方法，包括以下步骤：在衬底上形成具有开口的掩模；将生长线期间成为催化剂的金属蒸发到其上形成掩模的衬底上；并且在含有形成线的材料气的气氛中加热蒸发金属于其上的衬底，在衬底的开口中生长线，其中衬底作为在掩模开口中生长线的核，其特征在于由在衬底的表面上形成多个凹槽，和选择性地刻蚀凹槽的侧壁在多个凹槽的相邻的凹槽之间形成突起的步骤形成核。根据本发明的方法，可以高精度地生长线。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.量子线制造方法，包括以下步骤：在衬底上形成具有开口的掩模；将生长线期间成为催化剂的金属通过蒸发沉积到其上形成掩模的衬底上；并且在含有形成线的材料气的气氛中加热蒸发金属于其上的衬底，在衬底的开口中生长线，其中衬底表面作为在掩模开口中生长线的核，其特征在由在衬底的表面上形成多个凹槽，和选择性地刻蚀凹槽的侧壁在多个凹槽的相邻的凹槽之间形成突起的步骤形成核。
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