[发明专利]光生伏打元件及其制造法有效

专利信息
申请号: 97122850.7 申请日: 1997-09-05
公开(公告)号: CN1156022C 公开(公告)日: 2004-06-30
发明(设计)人: 冈部正太郎;藤冈靖;金井正博;酒井明;泽山忠志;幸田勇藏;芳里直;矢岛孝博 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L31/18
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蒋世迅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 由半导体结型元件组成的光生伏打元件,其特征是,该元件包括第1导电类型半导体层,非晶i型半导体层,微晶第2导电类型半导体层,这是pin结合的。制造光生伏打元件的方法和设备,其特征是,有效地而连续地大量生产光生伏打元件,它具有优良的电流电压特性,和优良的光电转换效率。光生伏打元件,在非晶i型层和微晶导电层之间有良好的晶格连续性,该方法和设备用于连续地大批量地生产光生伏打元件。
搜索关键词: 光生伏打 元件 及其 制造
【主权项】:
1、一种光生伏打元件,由半导体结元件组成,其特征是,所述 的元件包括第1导电类型的半导体层、非晶i型半导体层、微晶i 型半导体层,和微晶第2导电类型的半导体层,其中在所述微晶第 2导电类型的半导体层中最大杂质浓度的区域具有1021原子/cm3或 更大的杂质浓度,并且杂质浓度向着所述微晶i型半导体层减小; 以及所述元件是pin结元件。
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