[发明专利]曝光装置以及曝光方法

摘要

保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。

主权项

1、一种曝光装置，分别用规定图形曝光被划分在感应基片上的多个区域，其特征在于：具备多个载片台，保持着感应基片独立地移动于测量感应基片上的划分区域的位置信息的位置信息测量区域和曝光部分区域之间；各载片台具有基准标记，用于求出感应基片上的各划分区域在载片台内的相对位置；使用各划分区域相对在位置信息测量区域中测量出的该基准标记的相对位置，在曝光区域中进行感应基片的各划分区域的对位。