[发明专利]II-VI族半导体器件有效

专利信息
申请号: 97181933.5 申请日: 1997-06-25
公开(公告)号: CN1150633C 公开(公告)日: 2004-05-19
发明(设计)人: 钱丰廉;M·A·哈泽;T·J·米勒 申请(专利权)人: 美国3M公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/327
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 张政权
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种II-VI族半导体器件,包括半导体层的叠层(10)。设有电气耦合到叠层的欧姆接触(34)。此欧姆接触在暴露于氧化物质时具有一氧化率。钝化覆盖层(42)覆盖在此欧姆接触上,且其氧化率小于欧姆接触的氧化率。
搜索关键词: ii vi 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于包括:半导体层的叠层;电气耦合到此叠层的欧姆接触,此欧姆接触包括包含Be的II-VI族半导体且在暴露于氧化材料中时具有一氧化率;以及覆盖在欧姆接触上的钝化覆盖层,所述覆盖层的氧化率小于欧姆接触的氧化率,该钝化覆盖层包括ZnTe。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国3M公司,未经美国3M公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97181933.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top