[发明专利]抗蚀剂的显影方法以及显影装置有效
| 申请号： | 97190887.7 | 申请日： | 1997-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN1133902C | 公开（公告）日： | 2004-01-07 |
| 发明（设计）人： | 五味二夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明的课题是提供提高刻蚀技术中抗蚀剂的显影图形的精度，避免操作的迟缓和烦杂的显影方法以及显影装置。本发明的显影装置具有积存显影液(22)的显影容器(20)，把被涂敷了光抗蚀剂和被曝光了的挠性薄膜(12)引导到显影容器(20)内使其浸泡在显影液(22)中的导向装置(14，16)，从排放口(28a)把由显影液(22)产生的液压加到浸泡在显影液(22)中的挠性薄膜(12)上的泵(26)。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 显影 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.刻蚀技术中的抗蚀剂的显影方法，包括把被涂敷了抗蚀剂以及被曝光了的显影对象物浸泡在容器内所积存的显影液中，同时，把由上述显影液产生的液压加到上述显影对象物上的工序，并且调整上述液压使得上述液压随上述显影液的浓度下降而升高。
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