[发明专利]由有机卤硅烷水解制备聚有机硅氧烷的方法无效
| 申请号： | 97191854.6 | 申请日： | 1997-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN1099435C | 公开（公告）日： | 2003-01-22 |
| 发明（设计）人： | L·多盖特;P·福佩里恩;E·福奇尔;F·莱辛 | 申请（专利权）人： | 罗狄亚化学公司 |
| 主分类号： | C08G77/06 | 分类号： | C08G77/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及通过式(I)RaR1bSiXc的有机卤化硅烷的水解制备聚有机硅氧烷的方法，其中R和R1相同或不同地代表氢原子或线性或支化C1～C6烷基、芳基、烷芳基或芳烷基；X表示卤原子；且a+b+c＝4，且0＜c＜4；该方法包含三个或多个连续水解步骤(1)、(2)、(3)，其中反应介质能够将提高的水解力作用于有机卤化硅烷(I)上，其中步骤(1)是在反应介质的压力和温度下，在饱和卤化氢的水溶液S1存在下的加压水解；和视具体情况而定进行一个或多个聚结步骤(4)。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 硅烷 水解 制备 有机硅 方法 | ||
【主权项】：
1.通过式(I)RaR1bSiXc所示有机卤化硅烷的水解制备聚有机硅氧烷的方法，其中：R或R1相同或不同地代表氢原子、线性或支化C1～C6烷基、芳基、烷芳基或芳烷基；X表示卤原子；且a+b+c＝4，且0＜c＜4；其特征在于该方法包含以下步骤：-对有机硅烷(I)进行至少三个连续水解步骤(1)、(2)、(3)，其中，通过使水相对≡SiX键的反应活性随步骤1、2和3逐步增加，使反应介质能够将提高的水解力作用于有机卤化硅烷(I)上：步骤(1)是在反应介质的压力和温度下，在饱和卤化氢的水溶液S1存在下的加压水解，步骤(2)是10～50℃下的湿法水解，步骤(3)是用稀水溶液的水解，其水含量大于或等于90wt％。
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