[发明专利]一种制备光学薄膜的方法无效
| 申请号： | 97192651.4 | 申请日： | 1997-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN1121620C | 公开（公告）日： | 2003-09-17 |
| 发明（设计）人： | A·J·乌德克瑞克;L·W·卡尔森;A·L·克茨;T·J·内维特;C·A·斯托佛;M·F·韦伯;R·C·艾伦;B·马宗达 | 申请（专利权）人： | 美国3M公司 |
| 主分类号： | G02B1/04 | 分类号： | G02B1/04;G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 陈文青 |
| 地址： | 美国明尼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学薄膜，它包含位于双折射性连续基质中的分散相。薄膜通常通过拉伸在一个或多个方向上取向。选择分散相颗粒的大小和形状、分散相的体积分数、薄膜厚度和取向的量，使制得的薄膜对所要用的波长的电磁辐射有所需程度的漫反射和总透射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 光学薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备光学体的方法，包括以下步骤：提供一种组合物，该组合物包含一连续相和一分散相，其中连续相和分散相中至少一个的折射率可通过取向来调节；和使组合物取向，直至连续相的双折射至少约为0.05，组合物的漫反射率大于约30％，连续相和分散相在三个相互正交轴的第一个轴向上的折射率差大于约0.05，而在三个相互正交轴的第二个轴向上的折射率差小于约0.05。
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