[发明专利]包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物无效
申请号: | 97193958.6 | 申请日: | 1997-03-06 |
公开(公告)号: | CN1216618A | 公开(公告)日: | 1999-05-12 |
发明(设计)人: | B·L·古德戴尔;S·扎雅拉曼;R·A·希克;L·F·罗迪斯 | 申请(专利权)人: | B·F·谷德里奇公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004;C08G61/08;C08F32/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 刘金辉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物,包括光致酸引发剂和多环聚合物,该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。经在成像辐射源下曝光后,光致酸引发剂生成使酸不稳定侧基开裂的酸,使导致聚合物极性变化。在成像源下曝光的区域中的聚合物溶于碱水溶液中。 | ||
搜索关键词: | 包括 具有 不稳定 聚合物 光刻 组合 | ||
【主权项】:
1.一种光刻胶组合物,包括一种光致酸引发剂、一种非必要的溶解抑制剂和一种包括其中至少一部分含酸不稳定侧基的多环重复单元的聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于B·F·谷德里奇公司,未经B·F·谷德里奇公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97193958.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:含有内葡聚糖酶的清洗组合物
- 下一篇:制备杂环碳烯的方法