[发明专利]利用偏振光确定特征参数的方法和装置无效
| 申请号： | 97194713.9 | 申请日： | 1997-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1219236A | 公开（公告）日： | 1999-06-09 |
| 发明（设计）人： | J·M·密苏拉 | 申请（专利权）人： | 利奥泰克有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01J4/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李湘 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 利用光束偏振状态变化监视固体表面的等离子体反应(在刻蚀或淀积期间)。在等离子体处理期间衬底的物理参数将发生变化。所监视的光束表征了衬底表面组分的变化和与等离子体处理相关的组分变化。表面反射的光束通过采用椭偏仪测量术但是采用新计算方法的系统分析。光偏振状态的周期被用作参照点以实时监视表面情况。本发明还可以用于表面的定量和定性化学分析。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 偏振光 确定 特征 参数 方法 装置 | ||
【主权项】：
1．一种在材料处理期间在位确定和/或监视材料一个或多个特征参数的方法，其特征在于包括：使已知偏振状态的光束射向材料；分析从材料反射的光束以确定偏振状态的变化；监视一段时间内偏振状态的变化以获取偏振状态变化的周期；以及根据所获的周期计算材料一个或多个特征参数。
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