[发明专利]光数据存储盘模子的制造方法

摘要

一种光数据存储盘模子的制造方法,它包括以下步骤提供含有重量的5%到15%的磷的非晶无电镍基片,所述基片的韧度大约为010Mpam,粗糙度大约为1到50nm,平滑度大约为6μm;在基片的表面淀积负感光性材料。该基片的直径大于120mm,厚度大于300μm。然后用激光对负感光性材料进行曝光从而在感光性材料中形成负数据模式。将感光性材料显影并对基片进行离子加工从而在基片中形成数据模型,这样便形成了具有凸起和基面的螺旋迹道,其中,每个凸起的高度小于150nm。在将数据模式加工到基片中之后从基片上剥去显影过的感光性材料。

主权项

1、一种光数据存储盘模子的制造方法，它包括以下步骤：提供韧度至少约为10MPam的可进行离子加工的非晶金属基片；在所述基片表面淀积一层感光性材料；用电磁能辐射源对所述感光性材料进行曝光从而在所述感光性材料中形成数据模式；将所述感光性材料显影；和对所述数据模式进行离子加工，从而在所述基片中形成具有至少一个凸起和至少一个基面的螺旋迹道。