[发明专利]真空处理室的通用壳体

摘要

一种其中可拆卸地装有基片支承件的真空处理室。该室的侧壁中包括一个孔口，该孔口大得足以让基片支承件从中通过而从室中取出。一个组合安装装置延伸得穿过该孔口并在朝向室的内侧壁处可拆卸地支承着室内的基片支承件。该安装装置包括安装凸缘和支承臂。安装凸缘连接在室的外表面上，支承臂延伸在基片支承件与安装凸缘之间。该室包括与基片支承件隔开的位于室的端壁中央部位的一个单个真空口。该真空口连接着从室内抽取气体的真空泵，且将室保持在低于大气压的压力状况下。基片支承件由于能从室的侧壁中取出而便于维修或替换。装有基片支承件的侧壁也使得一个大真空口位于室的端壁中，因此，将该真空口与大容量真空泵连接而达到高流动。室还包括组合衬圈、组合等离子发生源及组合真空泵送装置，它们中每一种均可用可互换装置替换。

主权项

1.一种真空处理室的通用壳体，包括：一个具有第一、第二端壁以及在端壁之间延伸的一个侧壁的室，该室包括一个穿通侧壁的侧壁孔口，该侧壁孔口具有一个支承模件安装装置，该支承模件安装装置可拆卸地连接着一个适配的基片支承件装配模件，其特征在于：所述室包括一个等离子发生源装配模件。