[发明专利]光掩模坯无效

专利信息
申请号: 97196087.9 申请日: 1997-06-30
公开(公告)号: CN1124519C 公开(公告)日: 2003-10-15
发明(设计)人: R·H·弗伦奇;K·G·夏普 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,周慧敏
地址: 美国特拉华*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 透射衰减嵌入相移光掩模坯包括至少一种聚合物材料,优选为一种无定形含氟聚合物,或一种掺有氟功能化的有机硅烷的无定形含氟聚合物,和有机硅酸酯,或其组合,此聚合物材料具有:a)在所选择的平版印刷波长在400nm以下时的折射率(n)范围在1.2~2.0,优选在1.26~1.8的范围;和(b),在所选择的平版印刷波长在400nw以下时的消光系数(k)范围在0.04~0.8,优选在0.06~0.59的范围。
搜索关键词: 光掩模坯
【主权项】:
1.一种聚合物的透射衰减嵌入相移器光掩模坯,包括至少一种具有下列指数的聚合物材料:(a)、在所选平版印刷波长在400nm以下时,折射率范围为1.2~2.0;和(b)、在所选平版印刷波长在400nm以下时,消光系数(k)范围为0.04-0.8;其中所述聚合物材料选自:i)一种含有一种发色团的无定形含氟聚合物;ii)含有芳基的有机硅酸酯;所述有机硅酸酯由无机硅酸酯、有机硅酸酯或其混合物所稀释;和iii)i)和ii)的混合物;其前提条件是当有机硅酸酯中所含的芳基是苯基时,所选的波长是193nm。
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