[发明专利]含有二阴离子或烷氧基化二阴离子表面活性剂的液体清洗组合物和洗发剂无效
| 申请号： | 97197322.9 | 申请日： | 1997-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1228113A | 公开（公告）日： | 1999-09-08 |
| 发明（设计）人： | P·R·福莱;S·W·海因兹曼;A·L·麦恩;J·L·P·贝特蒂奥尔;B·T·因格拉姆;J·M·加德里克;C·B·莫特莱 | 申请（专利权）人： | 普罗格特－甘布尔公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D1/94;A61K7/50 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马崇德,周慧敏 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及包含与一种或多种其它辅助表面活性剂结合的含有二阴离子或烷氧基化二阴离子洗涤剂的表面活性剂体系的液体洗涤剂组合物或洗发剂组合物，所述二阴离子表面活性剂含有至少五个碳原子的结构骨架，并且骨架连接有两个被至少三个原子隔开的阴离子取代基，其中一个阴离子取代基是硫酸盐基团或烷氧基连接的硫酸盐基团，另一个阴离子取代基选自选择性地烷氧基连接的硫酸盐和磺酸盐。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 阴离子 烷氧基化二 表面活性剂 液体 清洗 组合 洗发剂 | ||
【主权项】：
1．液体清洗组合物，其含有：a)作为表面活性剂体系的部分，按重量计0.1％-50％二阴离子或烷氧基化二阴离子清洗剂，其含有至少五个碳原子的结构骨架，并且骨架连接有两个被至少三个碳原子隔开的阴离子取代基，其中一个阴离子取代基是硫酸盐基团或烷氧基连接的硫酸盐基团，另一个阴离子取代基选自选择性地烷氧基连接的硫酸盐和磺酸盐；b)作为表面活性剂体系的其它部分，按重量计0.1％-50％的一种或多种辅助表面活性剂；c)按重量计1％-99.7％的溶剂；和d)按液体清洗剂组合物重量计0.1％-75％的辅助组分。
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