[发明专利]用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物有效
申请号: | 97197557.4 | 申请日: | 1997-08-22 |
公开(公告)号: | CN1133901C | 公开(公告)日: | 2004-01-07 |
发明(设计)人: | K·迪特利克;M·昆兹;H·雅马托;C·德勒奥 | 申请(专利权)人: | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴玉和,杨九昌 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了式1肟烷基磺酸酯化合物作为光敏酸产生体在可用碱性介质显影且对波长为340-390纳米的射线敏感的化学放大性光致抗蚀剂以及对上述波长范围适用的相应组成的正型和负型光致抗蚀剂中的应用其中R代表萘基,(2)或(3);R0代表R1-X基团或R2;X代表直接连键,氧原子或硫原子;R1代表氢,C1-C4烷基或未取代的或被选自氯、溴、C1-C4烷基和C1-C4烷氧基的取代基所取代的苯基;R2代表氢或C1-C4烷基;且R3代表直链或支链C1-C12烷基,该烷基为未取代的或被一个或多个卤原子取代。∴ | ||
搜索关键词: | 用于 感光 分辨 谱线光致抗蚀剂 烷基 磺酰肟 化合物 | ||
【主权项】:
1.一种可光活化的组合物,该组合物包括:a)5-30重量%的至少一种在酸作用下能够交联的化合物,和c)0.5-25重量%的至少一种选自α-(甲磺酰氧基亚氨基)-3-甲氧基苄基氰,α-(甲磺酰氧基亚氨基)-3,4-二甲基苄基氰,α-(甲磺酰氧基亚氨基)噻吩-3-乙腈,α-(甲磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(异丙基磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(丁磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(辛磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(十二烷基磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(3-氯丙基磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(三氟甲基磺酰氧基亚氨基)噻吩-2-乙腈,α-(辛磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苄基氰和α-(3-氯丙基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苄基氰的化合物作为光引发剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西巴特殊化学品控股有限公司,未经西巴特殊化学品控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97197557.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:浆状储氢材料
- 下一篇:确定导电材料组成的涂层厚度的方法