[发明专利]含有芳基联亚氨基染料的光敏组合物无效
| 申请号： | 97198409.3 | 申请日： | 1997-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1232551A | 公开（公告）日： | 1999-10-20 |
| 发明（设计）人： | 丁术李;卢炳宏;D·N·克哈纳;A·J·科索 | 申请（专利权）人： | 克拉里安特国际有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光敏正性抗光蚀剂组合物,它含有成膜剂,光活性化合物,溶剂,和芳基联亚氨基染料。这种染色的抗光蚀剂降低了反射基片上的蚀刻图案的线宽变化,同时得到良好的平版印刷性。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 芳基联亚 氨基 染料 光敏 组合 | ||
【主权项】：
1．一种正性抗光蚀剂组合物，它包括一种成膜树脂、光活性化合物、溶剂和含下面结构式的染料的混合物：其中A1和A2各自独立地是吸电子基团，R1是H、(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷氧基、硝基、卤化物、氰基、芳基、烷芳基、链烯基、二氰基乙烯基、SO2CF3、COOZ、SO3Z、COZ、OZ、NZ2、SZ、SO2Z、NHCOZ或SO2NZ2，其中Z是H或(C1-C10)烷基，Y是共轭部分N=N、CW=CW、CW=N或N=CW，其中W是H、(C1-C10)烷基或(C1-C10)烷氧基，和m=1-5。
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