[发明专利]离子喷镀装置无效
| 申请号： | 97198505.7 | 申请日： | 1997-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN1149303C | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 酒见俊之;田中胜 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;H01L21/203 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种离子喷镀装置是在真空容器11内配设的炉床30a、30b的周围各自设有内带环状永久磁铁的辅炉床31a、31b。在相邻的2个等离子体枪1A和1B上所设的环状永久磁铁21a和21b的磁极取向、电磁线圈22a和22b的磁极取向、导向线圈24a和24b的磁极取向以及内藏在2个炉床内的2个环状永久磁铁的磁极取向互为反向。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 装置 | ||
【主权项】：
1.一种离子喷镀装置，其特征在于在这种离子喷镀装置中在真空容器上配设带有磁铁部件的多个等离子体枪、在多个等离子体枪中各自设有导向线圈、在真空容器中与多个等离子体枪相对应配设有多个炉床，在上述多个炉床的周围各自设有环状永久磁铁，相邻的2个等离子体枪上的2个上述磁铁部件的磁极取向、相邻的2个上述导向线圈的磁极取向以及相邻的2个上述环状永久磁铁的磁极取向分别互为反向。
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