[发明专利]凸点的形成方法和半导体装置无效

专利信息
申请号: 97199490.0 申请日: 1997-10-29
公开(公告)号: CN1153266C 公开(公告)日: 2004-06-09
发明(设计)人: 冈本明 申请(专利权)人: 新潟精密株式会社
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于用简单的工序来形成所希望的尺寸和形状的凸点。在印刷布线板1上以与半导体芯片5上的焊区6相同的间隔形成了焊区2后,用抗蚀剂3覆盖除了焊区形成区域之外的印刷布线板1的上表面。其次,使印刷布线板1被抗蚀剂3覆盖的面朝下,从其下方喷射熔融焊锡。熔融焊锡只附着于印刷布线板1的焊区形成面上,受到重力的作用而形成理想的半球状的凸点4。形成了凸点4的印刷布线板1在与半导体芯片5的焊区6进行了位置重合后,通过高温炉。由此,凸点4熔化,通过凸点4使半导体芯片5与印刷布线板1接合。
搜索关键词: 形成 方法 半导体 装置
【主权项】:
1.一种凸点的形成方法,该方法被用于形成连接在第1和第2基板这两者上被形成的焊区的凸点,其特征在于,包括:用抗蚀剂覆盖除了凸点形成区域之外的上述第1基板的上表面的工序;以及使上述第1基板的用抗蚀剂覆盖的面朝下、从其下方朝向被上述抗蚀剂覆盖的面调整喷射量喷射导电性材料、在上述第1基板上的焊区形成区域中形成大致半球状的凸点的工序。
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