[实用新型]一种多用途真空镀膜机无效
| 申请号： | 97225988.0 | 申请日： | 1997-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN2305408Y | 公开（公告）日： | 1999-01-27 |
| 发明（设计）人： | 王福贞 | 申请（专利权）人： | 王福贞 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100027 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种多用途真空镀膜机。在镀膜室中央可以安装旋转磁控柱状弧源,用于镀氮化钛等化合物膜,也可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源,用于在低熔点基材上镀纯金属膜。是一种多用途真空镀膜机。在柱弧源和柱状靶的靶管中安装的条形永磁体做旋转运动,在靶管表面的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线形或曲线形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多用途 真空镀膜 | ||
【主权项】：
1．一种多用途真空镀膜机，其特征是在一台镀膜机中既可以安装旋转磁控柱状弧源又可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源，可以单独使用柱孤源镀氮化钛等化合物涂层，又可以单独使用旋转磁控柱状磁控溅射源镀纯金属膜，在柱弧源和柱状靶中均安装条形永磁体，永磁体在靶管中做旋转运动，靶管表面上的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线状或曲线状。
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