[发明专利]化学增强的光刻胶无效
| 申请号： | 98100726.0 | 申请日： | 1998-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN1109927C | 公开（公告）日： | 2003-05-28 |
| 发明（设计）人： | 井谷俊郎 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 卢纪 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明为了提供一种化学增强的光刻胶，它可防止T-形光刻胶图形的形成并增强溶解速度对曝光的依赖性，它有良好的分辨率、聚焦和尺寸精度，用一种具有不同分子量的t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物的混合物作为化学增强光刻胶的基质聚合物和PAG混合在一起。该混合物的优选的分子量比率和混合比率分别为1∶5至1∶20，和10至30重量份的低分子量聚合物对100重量份的高分子量聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增强 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种化学增强的光刻胶，它包含具有一种保护基团的多羟苯乙烯聚合物混合物和一种光酸发生剂，所述保护基团的极性是由酸催化剂变换的，其中：所述多羟苯乙烯聚合物混合物是通过混合具有摩尔比为25-45％的相同保护基团和不同平均分子量的多羟苯乙烯聚合物得到的，多羟苯乙烯聚合物混合物中平均分子量相对较高的多羟苯乙烯聚合物的平均分子量为8,000-30,000，多羟苯乙烯聚合物混合物中平均分子量相对较低的多羟苯乙烯聚合物的平均分子量为400-6,000，低分子量聚合物与高分子量聚合物的平均分子量之比为1∶5-1∶20，低分子量聚合物的混合比为10-30重量份比100重量份高分子量聚合物，并且所述保护基团选自叔丁氧羰基基团和四氢吡喃基基团。
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