[发明专利]金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法无效
申请号: | 98101293.0 | 申请日: | 1998-04-17 |
公开(公告)号: | CN1112460C | 公开(公告)日: | 2003-06-25 |
发明(设计)人: | 李言祥;马剑 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;C23C4/18 |
代理公司: | 北京清亦华专利事务所 | 代理人: | 罗文群 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法,该方法是先在金属表面用等离子喷涂方法制备陶瓷涂层,然后在激光照射的同时,将陶瓷粉末喷向涂层表面,对陶瓷涂层进行二次熔覆处理。用本发明的方法制备的激光熔覆陶瓷涂层,涂层内部致密、无孔隙和裂纹等缺陷,涂层厚度可达几百微米。 | ||
搜索关键词: | 金属表面 等离子 喷涂 激光 制备 陶瓷 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1、一种金属表面等离子喷涂后激光熔覆制备陶瓷涂层的方法,该方法包括:(1)对金属表面进行清洗和喷砂;(2)用火焰喷涂方法制备打底层,打底层厚度为30~60微米;(3)用等离子喷涂方法制备陶瓷涂层,涂层厚度为50~100微米;其特征在于还包括:(4)在激光照射的同时,将陶瓷粉未喷向上述涂层表面,对陶瓷涂层进行二次熔覆处理,其工艺参数为:激光功率密度为1~10×104W/cm2,激光扫描速度为3~30mm/秒,送粉角度为45~70°,粉嘴与基体距离为5~15mm,送粉速度为0.5~10g/分,搭接率为30%~60%;上述陶瓷涂层为氧化物陶瓷。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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