[发明专利]半导体器件无效

专利信息
申请号: 98102275.8 申请日: 1998-06-15
公开(公告)号: CN1202737A 公开(公告)日: 1998-12-23
发明(设计)人: 小林研也 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/78;H01L21/76;H01L21/8234
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种半导体器件,即使扩散层狭窄,也能够实现高击穿电压。在该半导体器件中,第一耗尽层(29—1)从N型阱层(19)和P型漏层(20)之间的连接处扩展,第二耗尽层(29—2)从N型阱层(19)和P型硅基片(1A)之间的连接处扩展,在这两个耗尽层被击穿之前,它们彼此连接一个单独的耗尽层(29)。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,具有第二导电型阱层,该层形成于第一导电型区域的表面,后者位于半导体基片的表面,以及杂质扩散层,其形成于第二导电型阱层的表面,其特征为:施加反向电压时,第一耗尽层从所说的杂质扩散层开始扩展,第二个耗尽层从所说的第二导电型阱层和所说的第一导电区域连接处开始扩展,在所说的第一耗尽层和第二耗尽层被击穿之前,它们互相连接成一个单独的耗尽层,由此实现了高击穿电压。
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