[发明专利]多层基片及其制造方法无效
| 申请号： | 98102529.3 | 申请日： | 1998-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1167315C | 公开（公告）日： | 2004-09-15 |
| 发明（设计）人： | 滝上耕太郎 | 申请（专利权）人： | 富士摄影胶片株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/46 | 分类号： | H05K3/46 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 黄剑锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 多层基片及其制造方法，为在规定分割位置上把多层基片分割成多个，在上述芯层的分割位置上设有断续地形成的缝纫针眼状或狭缝状的孔，且在上述表面层的分割位置上设有V型切削的V槽，或为在规定的分割位置上分割多层基片，在芯层的分割位置上设有断续形成的第1孔，且在上述表面层的分割位置上设有断续的且贯通多层基片地形成的第2孔，在上述芯层的上述分割位置上、将第2孔位于第1孔之间、使第1孔和第2孔连续的。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.多层基片，它是将表面层叠积在芯层上而构成的、而且能在规定的分割位置上分割成多个的，其特征在于：在上述芯层的上述分割位置上设有断续地形成的、在基片的厚度方向穿通芯层的通孔，而且在上述表面层的上述分割位置上设有被切削的槽，且该槽被形成为与上述孔相连接。
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