[发明专利]投影曝光装置及方法、振幅象差评价方法及象差消除滤光器有效
申请号: | 98103875.1 | 申请日: | 1998-02-19 |
公开(公告)号: | CN1204071A | 公开(公告)日: | 1999-01-06 |
发明(设计)人: | 加门和也 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 姜郛厚,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种能补偿投影光学系统中的透射率分布、且无立体障碍和成象特性劣化的投影曝光装置。它是利用来自光源11的照明光照亮光掩模20,利用投影光学系统6使来自光掩模20的衍射光在被曝光底片21上成象,对电路图形进行投影的投影曝光装置,投影光学系统6具有第1及第2半反射镜1、3和第1及第2凹面镜2、4。第1及第2半反射镜1、3相对于从第1半反射镜1射向第2半反射镜3的衍射光的光轴的轴线对称或相似对称地配置。 | ||
搜索关键词: | 投影 曝光 装置 方法 振幅 象差 评价 消除 滤光 | ||
【主权项】:
1.投影曝光装置,它是利用来自光源的照明光照亮光掩模,利用投影光学系统使来自被照亮的上述光掩模的衍射光在被曝光底片上成象,对电路图形进行投影,该投影曝光装置的特征在于:上述投影曝光装置具有:第1半反射镜;反射上述第1半反射镜的反射光或透射光用的第1凹面镜;与上述第1半反射镜分开独立设置的第2半反射镜;以及反射上述第2半反射镜的反射光或透射光用的第2凹面镜。
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