[发明专利]半导体发光器件及其制作方法有效
申请号: | 98104039.X | 申请日: | 1998-01-24 |
公开(公告)号: | CN1127153C | 公开(公告)日: | 2003-11-05 |
发明(设计)人: | 佐佐木和明;中村淳一 | 申请(专利权)人: | 夏普公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马莹 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体发光器件包括:一具有一级导电性的复合半导体衬底;一发光层;一具有二级导电性且不含Al的复合半导体界面层;以及一具有二级导电性且由不含Al的复合半导体制成的电流扩散层。一种制造该半导体发光器件的方法,包括步骤:在该复合半导体衬底上形成该发光层和该复合半导体界面层;在该复合半导体界面层上形成该电流扩散层,其中一生成过程暂停一预定时间,以使一重新生成界面安排在该复合半导体界面层的表面。 | ||
搜索关键词: | 半导体 发光 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体发光器件,包括:一复合半导体衬底;一发光层;一不含Al的复合半导体界面层;其中所述发光层和界面层依次在所述衬底上形成,其特征在于:所述半导体发光器件还包括一具有二级导电性并由不含Al的复合半导体制成的电流扩散层,其形成于所述界面层之上;并且其中所述衬底具有一级导电性,所述界面层具有二级导电性。
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