[发明专利]脉冲阳极等离子体浸没注入无效
| 申请号： | 98104114.0 | 申请日： | 1998-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN1198072A | 公开（公告）日： | 1998-11-04 |
| 发明（设计）人： | A·S·德诺姆;J·沙奥 | 申请（专利权）人： | 易通公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;C30B31/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林长安 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用离子碰撞工件注入表面来处理工件注入表面的方法和装置。注入室(12)确定了能插入一个或多个工件的室内部,并包含靠近室内部的导电内壁部分(22)。导电工件支架(30)伸入注入室内部区域。导电电极(32)相对所述导电工件支架被配置在所述注入室内,允许工件被放置在支架和导电电极之间区域(34)的工件支架上。在注入室中射入气体分子使气体分子占据注入室中紧靠一个或多个工件的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 阳极 等离子体 浸没 注入 | ||
【主权项】：
1.一种使用离子碰撞工件表面而处理工件表面的方法，包括步骤：a)提供有室内部(24)的注入室(12)，把支撑一个或多个工件(14)的导电工件支架(30)置于室内部，还把导电电极相对工件支架放置，以使工件放置在支架和导电电极之间区域里的工件支架上；b)把一个或多个工件插入注入室(12)，将所述一个或多个工件放在导电工件支架(30)上，以使一个或多个工件的注入表面面对所述导电电极；c)将导电工件支架(30)，一个或多个工件，以及注入室(12)的导电壁部分保持在基准电位；d)给靠近由导电工件支架(30)支撑的一个或多个工件的注入室内提供电离注入材料；e)电离电离注入材料，在所述一个或多个工件(14)注入表面的附近形成离子等离子体；和f)通过电场加速等离子体中的离子，撞击一个或多个工件(14)的注入表面。
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