[发明专利]镜面体无效
| 申请号： | 98105604.0 | 申请日： | 1998-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN1107877C | 公开（公告）日： | 2003-05-07 |
| 发明（设计）人： | 谷野吉弥 | 申请（专利权）人： | 日本皮拉工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 叶恺东,王忠忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供对激光等高能光束照射具有充分耐力并适合用作高能光束用的反射镜、衍射光栅等的镜面体。本发明的镜面体是在作为碳化硅烧结体的基体(2)的表面上被覆形成由化学蒸镀的碳化硅膜(3)，将该膜表面加工成镜面(3)。在离碳化硅膜(3)的镜面300以内深度d范围内存在碳化硅的无缺陷结晶层(3b)。碳化硅膜(3)形成强取向的结晶，以便使在用密勒指数表示的特定的一个结晶面[例如(220)面]上X射线的衍射强度比达到峰值强度的90％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 镜面体 | ||
【主权项】：
1、一种镜面体，具有由碳化硅构成的表面层的表面加工而成的镜面，其特征在于，所述表面层由化学蒸镀的碳化硅膜构成，而作为化学蒸镀碳化硅膜的基体，是使用致密的α碳化硅或β碳化硅烧结体，应用等离子化学蒸镀加工法来形成表面粗糙度RMS10以下的所述镜面，从所述表面层的镜面表面到碳化硅的无缺陷结晶层的深度不大于300。
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