[发明专利]低损耗光学有源器件及其制造方法无效
| 申请号： | 98106972.X | 申请日： | 1998-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1193117A | 公开（公告）日： | 1998-09-16 |
| 发明（设计）人： | 俞炳权;李炯宰;李泰衡;李勇雨 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 李晓舒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 低损耗光学有源器件及其制作方法。该方法包括步骤用线性聚合物在可透过紫外(UV)光的基片上形成下包层在下包层的一区域形成不透过UV光的第一金属层,形成不透过UV光的第二金属层;形成非线性聚合物层;对基片用UV光曝光,仅在非线性芯区形成非线性聚合物;形成第三金属层;去除第二金属层;在第一金属层和光波导上涂覆线性聚合物;仅在线性芯区形成线性聚合物;去除第一和第三金属层;在下包层和波导芯区形成上包层。 | ||
| 搜索关键词： | 损耗 光学 有源 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作具有光波导的光学有源器件的方法，该光波导包含一个传导光信号时引起非线性效应的光学波导芯区(非线性芯区)，和一个不会引起非线性效应的光学波导芯区(线性芯区)，该方法包括下述步骤：用线性聚合物在可透过紫外(UV)光的基片上形成一下包层；在该下包层上的一个区域内形成不透过UV光的第一金属层，其它区域将要沉积上光波导；在沉积的第一金属层上且与线性芯区两端头相邻处，形成由不同于第一金属层的材料制成并且不能透过UV光的材料所构成的第二金属层；在波导区、第一金属层和第二金属层上形成非线性聚合物层；通过从基片底部一侧用UV光对其曝光，并去除形成在第一和第二金属层上的未固化的非线性聚合物，而仅在非线性芯区形成固化的非线性聚合物；在沉积在非线性芯区的非线性聚合物上形成第三金属层；去除该第二金属层；在该第一金属层和光波导上涂覆线性聚合物；通过从基片底部一侧用UV光对其曝光，而仅在线性芯区形成线性聚合物；去除沉积在下包层上的第一金属层和第三金属层；以及在下包层和波导芯区上形成上包层。
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