[发明专利]研磨装置无效
| 申请号： | 98107043.4 | 申请日： | 1998-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN1078836C | 公开（公告）日： | 2002-02-06 |
| 发明（设计）人： | 上野久史 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林长安 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种研磨装置，它能够稳定诸如用于制造半导体装置的薄片等的研磨物体周边部分的研磨速度。该研磨装置通过将研磨物体与旋转研磨台上的砂布相对设置并在研磨块上施加负载以及供给研磨液来进行研磨。还设有一个环绕给定厚度的弹性缓冲板的环状卡环，所述缓冲板位于研磨物体固定块和研磨体之间，使得研磨物体和研磨板之间的接触压力均匀，从而使得研磨物体的研磨速度恒定。$#! | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
1.一种研磨装置，包括：在上表面带有砂布的旋转研磨台；向所述旋转研磨台上提供研磨液的装置；研磨物体夹持装置，它用于通过具有给定弹性的盘状缓冲板面对所述砂布夹持研磨物体，并用于驱动所述研磨物体旋转同时保持研磨物体在压力下与所述砂布相接触；一设在所述研磨物体夹持装置中的环状卡环，它可拆卸地安装在所述研磨物体的外圆周上，所述环状卡环延伸到并环绕所述缓冲板的整个周边部分。
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