[发明专利]乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法无效
申请号: | 98108617.9 | 申请日: | 1998-05-09 |
公开(公告)号: | CN1085679C | 公开(公告)日: | 2002-05-29 |
发明(设计)人: | 门永锋;董德文;蒋世春;姜炳政 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春应用化学研究所 |
主分类号: | C08F130/08 | 分类号: | C08F130/08 |
代理公司: | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人: | 曹桂珍 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明是提供一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,本方法采用传统的Sol-Gel方法,将无机组分Sol-Gel前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶。再采用γ射线辐照原位聚合凝胶中乙烯基单体,从而获得乙烯基有机/无机纳米杂化材料,聚合原理为自由基聚合。本发明可制备高无机(SiO2)含量的杂化材料,材料的制备周期短,且聚合方法简单易行,整个过程易于工业化。#! | ||
搜索关键词: | 乙烯基 有机 无机 纳米 材料 合成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,是以传统的溶胶—凝胶法为基础,其特征在于采用溶胶—凝胶前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶,凝胶中乙烯基单体的聚合采用γ-射线辐照原位聚合,采用的乙烯基单体结构如下式:R1=H,CH3R2=CH2CH2OH,H(CH2)3Si(OR)3??R=Me,Et在制备过程中,正硅酸乙酯(TEOS)在盐酸催化下水解成溶胶,乙烯基单体加入到溶胶中,形成凝胶,凝胶制备温度在30-50℃,之后在γ-射线辐照下聚合,聚合温度在5-45℃,辐照剂量为5-100KGy,辐照时间为4-20小时,然后将样品置于60-80℃加热干燥1-2周,所得最终杂化材料中无机SiO2含量可达60%,在可见光范围内透光率在85%-100%。
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