[发明专利]生产薄膜的方法及实施该方法的装置无效
| 申请号： | 98109822.3 | 申请日： | 1998-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1209658A | 公开（公告）日： | 1999-03-03 |
| 发明（设计）人： | 森山强 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | H01L49/02 | 分类号： | H01L49/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨松龄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种热处理装置,该装置能在基质上形成有均匀厚度的薄膜,该装置包括一炉芯管;一支承大量基质的置于炉芯管内的基质支承船;具有很多吹气孔,以将工业废气吹向基质的工业废气喷射管,支承船有一旋转机构,能绕作为一旋转轴的通过基质的主表面中心的法线而旋转。在装置中惰性气体喷射管有与工业废气的吹气孔的数目相同的惰性气体或氮气吹气孔,惰性气体的喷射管设置在相对旋转轴的中心线大致对称的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 薄膜 方法 实施 装置 | ||
【主权项】：
1．一种在位于炉芯管内的基质上生产薄膜的方法，包括使基质绕着中心轴线随着第一气体朝向基质喷出而旋转的步骤，所述中心轴是一通过基质的主表面中心的法线，所述第一气体主要包括工业废气，其中薄膜在基质上形成，同时允许第二气体通过一中心轴沿对着第一气体的喷出方向喷出，所述第二气体主要包含惰性气体或氮气。
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