[发明专利]合成高硅丝光沸石的方法有效
| 申请号： | 98110736.2 | 申请日： | 1998-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN1083399C | 公开（公告）日： | 2002-04-24 |
| 发明（设计）人： | 程文才;杨德琴;李华英 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工总公司;中国石油化工总公司上海石油化工研究院 |
| 主分类号： | C01B39/26 | 分类号： | C01B39/26;B01J29/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 合成SiO2/Al2O3分子比为15～30的高硅丝光沸石，通常需使用有机碱作为附加试剂。本发明不用任何有机碱作附加试剂，以价廉易得的水玻璃、无机酸、无机碱、铝盐或铝酸盐等工业原料在阴离子表面活性剂存在下直接合成。按本发明制备的高硅丝光沸石，具有生产成本低、环境无污染、工艺操作简单、产品质量稳定等优点，制得的高硅丝光沸石可用于制造甲苯歧化与烷基转移反应的催化剂。$#! | ||
| 搜索关键词： | 合成 丝光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种合成高硅丝光沸石的方法，其SiO2/Al2O3分子比为15～30，以水玻璃、无机酸、无机碱和铝盐或铝酸盐为原料，反应混和物中的分子比为：Na2O/Al2O3＝1～10；SiO2/Al2O3＝10～30；H2O/Al2O3＝200～1000，晶化温度为120～240℃，完成晶化所需的时间为6～360小时，晶化所得混合物经过滤、水洗、干燥制成高硅丝光沸石，其特征在于在晶化过程中以阴离子表面活性剂为附加试剂，阴离子表面活性剂的加入量为最终丝光沸石产物重量的0.1～10％。
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