[发明专利]接触照像复制法生产荫罩版用的玻璃基板无效
| 申请号： | 98112942.0 | 申请日： | 1998-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN1095593C | 公开（公告）日： | 2002-12-04 |
| 发明（设计）人： | 李金科;冯克勤 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | H01J29/07 | 分类号： | H01J29/07 |
| 代理公司： | 中国科学院西安专利中心 | 代理人： | 任越 |
| 地址： | 710068 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 以接触式照像复制法生产荫罩版用的玻璃基板，本发明以应力双折射方法测得的应力值表示基板强度，适用于生产的玻璃基板的应力值范围为100-200nm，并且是至少三点的极大应力值；使用本发明确定的玻璃基板具有无在线炸裂现象、研磨性能好、再生使用次数增加的优点，为玻璃基板的在线使用提供了无损的定量检测依据，能使荫罩版的生产成本降低。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 复制 生产 荫罩版用 玻璃 | ||
【主权项】：
1、一种接触照象复制法生产荫罩版用的玻璃基板，使用时有包括强度等性能的检测，并采用有应力双折射的检测方法，其特征在于，所述的玻璃基板用应力双折射检测方法，以所测得的应力值表示基板的强度，其适用玻璃基板的应力值范围为100-200nm，并且其检测应至少取不在同一直线上的三点的极大应力值。
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