[发明专利]用于电弧等离子体沉积设备的喷嘴式喷射器

摘要

设计和制造一种喷嘴式喷射器，用于采用界面稳定的电弧点燃器作为等离子体发生器的沉积薄膜层的等离子体沉积装置中。该喷嘴式喷射器控制反应剂的喷射、电离和反应，这些功能本身又决定了覆盖层沉积速率、覆盖层面积、覆盖层组合物以及覆盖层质量。

主权项

1一种整体的喷咀式喷射器，以用于电弧等离子体沉积装置，该装置包括有等离子体气体入口的电弧等离子发生器、至少一个阴极、具有扩张的等离子体通道的阳极、所述等离子通道是依等离子体气体流动的方向通过设备而扩张的，安装在阳极上的喷咀式喷射器，所述喷咀式喷射器具有从阳极依等离子体气体流动的方向通过设备而延伸的扩张通道、用于将氧注射到在阳极附近的等离子体中的氧喷射器以及至少一个反应剂喷射器以用于当等离子体膨胀进入扩张通道中时将反应气体喷射到等离子体中。