[发明专利]化学机械研磨机台无效
| 申请号： | 98115901.X | 申请日： | 1998-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1241469A | 公开（公告）日： | 2000-01-19 |
| 发明（设计）人： | 牛保刚;黄文忠;林必窕;洪连嵘;李森楠 | 申请（专利权）人： | 世大积体电路股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 李晓舒 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨机台,包括一研磨台,其沿一方向旋转。一研磨垫,其设于研磨台上。一晶片,其置于研磨垫上,此晶片具有背面与正面,而此晶片的正面与研磨垫相接触。一分送管,其置于研磨垫上方,用以输送研浆至研磨垫上。以及一滚筒,其置于研磨垫上方,用以滚平研磨轨上的研浆。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 机台 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨机台，所述机台包括：一研磨台，以一方向旋转；一研磨垫，设于所述研磨台上；一晶片，置于所述研磨垫上，所述晶片具有一背面与一正面，而所述晶片的正面与所述研磨垫相接触；一分送管，置于所述研磨垫上方，所述分送管未与所述研磨垫相接触，用以输送研浆至所述研磨垫上；以及一滚筒，置于所述研磨垫上，未与所述研磨垫接触，用以滚平所述研磨垫上的研浆。
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