[发明专利]凸点的形成方法无效

专利信息
申请号: 98115953.2 申请日: 1998-07-10
公开(公告)号: CN1205543A 公开(公告)日: 1999-01-20
发明(设计)人: 井上康介;米田达也;木本良辅;铃木高道;铃木顺一 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所;日立东京电子株式会社;株式会社日立超大规模集成电路系统
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯,叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在半导体封装体的凸点形成方法中,将半导体芯片安装到柔性基板上。使用导电性糊剂将导电性球暂时固定在与设置在上述柔性基板上的半导体芯片进行电连接的连接端子上。将暂时固定了上述导电性球的上述柔性基板卷绕到卷轴上。其次,从卷轴抽出柔性基板,对暂时固定了导电性球的柔性基板进行加热,以形成凸点。将形成了凸点的柔性基板卷绕到卷轴上。通过清洗、切割柔性基板形成半导体封装体。
搜索关键词: 形成 方法
【主权项】:
1.一种半导体封装体的凸点形成方法,其特征在于,包括下述步骤:将半导体芯片安装到柔性基板上的步骤;使用从焊剂、焊锡焊剂、包含混有导电性粒子的粘接剂的固定液的任一种中选择的导电性糊剂,将导电性球暂时固定在与设置在上述柔性基板上的半导体芯片进行电连接的连接端子上的步骤;将暂时固定了上述导电性球的上述柔性基板卷绕到卷轴上的步骤;从卷轴抽出暂时固定了上述导电性球的上述柔性基板,对暂时固定了上述导电性球的上述柔性基板进行加热,以形成凸点的步骤;将形成了上述凸点的上述柔性基板卷绕到卷轴上的步骤;以及通过清洗、切割上述柔性基板形成半导体封装体的步骤。
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