[发明专利]不污的、具有可润湿性涂层的部件无效

专利信息
申请号: 98116258.4 申请日: 1998-08-07
公开(公告)号: CN1213661A 公开(公告)日: 1999-04-14
发明(设计)人: R·B·蒂蒙斯;王振汉;C·R·萨维奇;吴育良 申请(专利权)人: 德克萨斯州大学系统董事会
主分类号: C07C2/24 分类号: C07C2/24
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 林蕴和
地址: 美国得*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种部件及其制备方法,它有一基材和一涂层组合物,涂层组合物可通过包括至少一种有机化合物或单体的气体的气相聚合或等离子体聚合形成。采用其负载循环约小于1/5,脉冲施加时间约小于100毫秒,脉冲切断时间约小于2000毫秒的脉冲式放电进行聚合。还可以改变负载循环,因此涂层组合物可以形成梯度层。该部件的涂层组合物厚度均匀,无针孔,在磁光谱的可见光区具备透光性、耐摩擦、可润湿和不被生物所污。
搜索关键词: 具有 润湿 涂层 部件
【主权项】:
1.一种包括一基材和一涂层组合物的部件,所述涂层组合物可通过包括至少一种有机化合物气体的气相聚合形成,所述的气相聚合为脉冲式,其负载循环约小于1/5,其中的脉冲施加时间约小于100毫秒,脉冲切断时间约小于2000毫秒,所述的有机化合物具有如下的结构:其中Y表示C=O;R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地表示:H、OH、卤素、C1-C4烷基、C1-C4烯烃、C1-C4二烯、C1-C4炔、C1-C4烷氧基、或C1-C4烷基卤;和R8表示:H、卤素、C1-C4烷基、C1-C4烯烃、C1-C4二烯、C1-C4炔、C1-C4烷基卤、C1-C4醛、C1-C4酮、C1-C4环氧化物、C1-C4羧酸、C1-C4酯,-CH=CHR9,其中R9是H、卤素、C1-C4烷基、C1-C4烷基卤、C1-C4醛、C1-C4酮、C1-C4烷氧基、C1-C4环氧化物、C1-C4羧酸或C1-C4酯,或-OR10,其中R10是H、卤素、C1-C4烷基、C1-C4烯烃、C1-C4二烯、C1-C4炔、C1-C4烷基卤、C1-C4醛、C1-C4酮、C1-C4环氧化物、C1-C4羧酸或C1-C4酯。
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