[发明专利]聚丙烯/蒙脱土插层复合材料及其制备方法无效
| 申请号： | 98117488.4 | 申请日： | 1998-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN1125125C | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | 漆宗能;王胜杰;周文友 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | C08L23/12 | 分类号： | C08L23/12;C08K13/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100080 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明聚丙烯/蒙脱土插层复合材料的原料包括：等规聚丙烯、蒙脱土、阳离子交换剂、质子化剂、分散介质水、改性剂，是将蒙脱土经过阳离子交换反应，用马来酸酐化聚丙烯进行改性，然后均匀分散在等规聚丙烯基体中。本发明的复合材料的结晶成核速度和力学性能明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 聚丙烯 蒙脱土插层 复合材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种聚丙烯/蒙脱土插层复合材料，其特征在于所述的复合材料的原料包括如下组分和含量：(重量份)等规聚丙烯100蒙脱土0.1～50阳离子交换剂0.02～32质子化剂0～25分散介质水30～2500改性剂0.3～150溶剂2～1300沉淀剂2～1300所述的复合材料中蒙脱土粒径为50～100μm，其阳离子交换总容量为50～200meq/100g。
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