[发明专利]一种干膜光刻胶

摘要

本发明涉及一种干膜光刻胶,其包括如下制备步骤制备一种用下述方法制备的光敏聚合物,即向作为粘合剂聚合物的丙烯酸共聚物中加入光聚合单体、光引发剂、光敏剂、成色剂、增塑剂和热稳定剂;干燥以预定的厚度涂布在聚对苯二甲酸乙酯支承体上的光敏聚合物;用安全的方法层压具有一定表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜。由于用于制造印刷电路板和引线框的本发明的干膜光刻胶使用具有优良表面性质的聚对苯二甲酸乙酯膜,可避免由该方法而产生的如空气混入的任何问题,这不同于现有技术使用聚乙烯膜作为覆盖膜,于是明显地减少了最终产品的次品率。

主权项

1．一种按照覆盖膜、光敏层和底膜的顺序连续进行层压而制造的干膜光刻胶，其中所述的覆盖膜可满足干膜光刻胶的表面性质，它是由下述公式1表示的聚对苯二甲酸乙酯的双向拉伸膜，公式13.0nm≤SRa≤50nm,50nm≤Spv≤500nm,300颗≤最高密度≤20,000颗，其中，SRa表示在用非接触三维均数粗度测定仪测得的中心线平均粗度；Spv是由峰到谷的高度差；最高密度表示每单位面积具有高度超过1nm而低于4nm点(1点=2μm×2μm)隆起物的数目。