[发明专利]化学机械研磨装置与方法有效
| 申请号： | 98119681.0 | 申请日： | 1998-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1086976C | 公开（公告）日： | 2002-07-03 |
| 发明（设计）人： | 林必窕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨梧 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨装置，可应用于一化学研磨机台，此机台包括以固定方向旋转的一研磨台，且位于该研磨台上具有一研磨垫，该化学机械研磨装置至少包括一第一调节刷、一第二调节刷以及一第三调节刷，通过三组调节刷的研磨可以将研磨垫磨平并且清洗干净，上述三组可调节刷的各表面可以分别为钻石颗粒、钻石薄膜以及刷子等，并且通过一可编程的控制摸组件来控制这些调节刷，其可按顺序或同时对研磨垫研磨。#! | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨装置，应用于一化学研磨机台，该机台包括以固定方向旋转的一研磨台，且位于该研磨台上具有一研磨垫，其特征在于，该化学机械研磨装置至少包括：一第一调节刷，具有一第一表面与该研磨垫接触，用以将该研磨垫进行粗磨；一第二调节刷，具有一第二表面与该研磨垫接触，用以将该研磨垫进行细磨；以及一第三调节刷，具有一第三表面与该研磨垫接触，用以将该研磨垫上的残余物去除。
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