[发明专利]现场监视等离子体腐蚀装置及方法有效

专利信息
申请号: 98120050.8 申请日: 1998-09-28
公开(公告)号: CN1221807A 公开(公告)日: 1999-07-07
发明(设计)人: 赵圣範;金学弼;辛银姬;崔百洵 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: C23F1/00 分类号: C23F1/00;H01L21/3065
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 谢丽娜
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的现场监视等离子体腐蚀装置包括工艺室,使用等离子体在其中进行腐蚀工艺;工艺气体提供装置,将工艺气体提供到工艺室内;废气排气装置,工艺室完成工艺后使用泵装置除去废气;采样管,连接到工艺室使用压力差采样工艺室内的气体;和气体分析仪,用于分析来自采样管的采样气体。工艺气体为从采样管连接采样的,并检测腐蚀和清洁工艺的优化工艺方法。
搜索关键词: 现场 监视 等离子体 腐蚀 装置 方法
【主权项】:
1.一种现场监视等离子体腐蚀装置包括:工艺室,使用等离子体在其中进行腐蚀工艺;工艺气体提供装置,将工艺气体提供到工艺室内;废气排气装置,工艺室完成工艺后使用泵装置除去废气;采样管,连接到工艺室使用压力差采样工艺室内的气体;以及气体分析仪,用于分析来自采样管的采样气体。
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